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知的財産法改正(2021年7月5日公式官報掲載)

 チリでは、現行の知的財産法(法律第19.039号)の改正法が2021年7月5日付け公式官報の掲載から6ヶ月後に発効する。

 

<意匠出願に関する主な変更点>

(1)実態審査省略手続きの導入

実態審査を必要としない意匠登録手続きが導入される。紛争が生じた場合には実態審査が後に必要となる可能性がある。簡略化された手続きを終え、実態審査を行わずに証明書が発行される。その証明書に実態審査で実質的な要件への準拠を確認するための特定の日付が記載される。権利所持者は実態審査が実施及び承認されていない場合、第三者に対して訴訟を起こすことができない。

 

(2)意匠保護期間の変更

意匠保護期間が、出願日から数えて10年から15年に延長される。

 

(3)既存意匠の保護期間の変更

新しい知的財産法が発効する前に登録された意匠に対し、権利所持者は意匠保護期間の最大5年間の延長を申請することが可能である(費用:約USD140)。

 

【情報源】

Clarke Modet HP:

https://www.clarkemodet.com/en/news-posts/new-intellectual-property-law-chile-main-changes/

チリ工業所有権庁 HP:

https://www.inapi.cl/sala-de-prensa/detalle-noticia/publican-en-el-diario-oficial-ley-corta-de-inapi-que-moderniza-la-norma-vigente-en-propiedad-industrial

 

(掲載日:2021年10月12日)

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